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　　9月12日，首屆國際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會在北京隆重召開，本次會議由國際著名的半導體設備公司KLA-Tencor和Anchor Semiconductor主辦，北京理工大學承辦。
      北京理工大學光學專家周立偉院士，國家科技重大專項02專項技術(shù)總師（專家組組長）葉甜春研究員，北理工光電學院院長薛唯，副院長許廷發(fā)，光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點實驗室李艷秋教授出席了此次會議。美國和中國相關(guān)企業(yè)、科研院所和大學及國內(nèi)外光刻技術(shù)專家、學者90余人參加了會議。Anchor Semiconductor 公司的副總裁Kenneth Wang主持會議。

　　首先，KLA-Tencor公司、Anchor Semiconductor公司、北京理工大學光電學院三方在光刻仿真技術(shù)研發(fā)、技術(shù)交流及人才培養(yǎng)方面簽署了意向合作協(xié)議。

　　KLA-Tencor公司的Patrick Lee做了PROLITH在光刻仿真技術(shù)、光刻新工藝研發(fā)，光刻膠研制，光刻機研發(fā)等方面的技術(shù)及應用報告。北京理工大學李艷秋教授在會議上做了光刻仿真技術(shù)及協(xié)同設計的學術(shù)報告，對課題組在光刻仿真技術(shù)方面取得的最新進展進行了全面、細致和深入的介紹，展現(xiàn)了我校在此領域研發(fā)的水平、地位和作用。

　　本次會議進一步促進和擴大中國光刻仿真技術(shù)在國際相關(guān)領域的合作和影響，為北京理工大學開展國內(nèi)外產(chǎn)、學、研實質(zhì)性合作及人才培養(yǎng)奠定了重要基礎，有力地支撐了我國光刻技術(shù)和相關(guān)設備研發(fā)。

（ 審稿人：李艷秋）